삼성 7나노 반도체 제조 기술 뜨니 채굴장비 업체도 들썩
삼성 7나노 반도체 제조 기술 뜨니 채굴장비 업체도 들썩
  • 황치규 기자
  • 승인 2018.10.23 16:13
  • 댓글 0
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삼성전자 화성캠퍼스 EUV라인 조감도
삼성전자 화성캠퍼스 EUV라인 조감도

삼성전자가 최근 극자외선(EUV) 노광 기술을 이용한 7나노미터(nm) 공정 개발을 마치고 양산을 시작했다는 소식은 비트코인 채굴 장비 업계에서도 관전 포인트로 부상했다. 비트코인 채굴 장비 제조사사들은 채굴에 필요한 퍼즐을 효과적으로 풀 수 있도록 지원하는 고성능 반도체를 필요로 했지만 이를 맞춰줄 수 있는 제품을 생산하는 곳은 많지 않았다. 

현재 시점에선 몇몇 파운드리 회사들이 비트코인 채굴 장비 회사들의 눈높이에 맞는 칩을 생산하고 있다고 비트코인닷컴은 전하고 있다.

비트메인, 가나안, 에방, GMO와 같은 비트코인 채굴장비 제조사들은 10나노 또는 7나노 반도체 기술을 사용한 제품 생산을 이미 발표했다. 일부 회사들은 이를 위해 삼성전자나 대만 TSMC와 협력하고 있다는 내용도 공개했다. 그렇지만 필요한 물량을 제때 확보하는 것이 만만치는 않은 것으로 전해진다.

지난 8월 글로벌 파운드리는 7나노 제조 공정을 중단하기로 했다. 이런 가운데 삼성전자가 7나노 공정을 가동함에 따라 고능성 칩에 대한 수요를 안정화하는데 도움이 될 것이라고 비트코인닷컴은 전했다.

삼성전자가 선보인 7LPP 공정은 10나노 2세대(10LPE) 공정 대비 면적을 약 40% 줄일 수 있고, 약 20% 향상된 성능 또는 약 50% 향상된 전력 효율을 제공한다. EUV 공정을 통해 총 마스크 수가 약 20% 줄어 고객들은 7LPP 공정 도입에 대한 설계·비용 부담을 줄일 수 있다는 게 삼성전자가 제시한 장점이다.

​반도체 미세공정은 원재료인 웨이퍼 위에 회로가 새겨진 마스크를 두고 특정 광원을 마스크에 투과시키는 방식으로 이뤄지는데, 10나노 이하 미세공정의 필수 요소로 꼽히는 EUV는 반도체 원자재인 웨이퍼에 빛으로 회로를 그리는 포토 리소그래피(Photo Lithography) 기술이다.

반도체 제조 기술은 계속해서 진화하고 있다. 삼성전자는 7나노 생산 공정외에 조만간 3나노 기술도 제공하겠다는 계획도 공유했다. TSMC는 2019년 3분기까지 5나노 공정 기술을 준비하겠다고 예고한 바 있다.

황치규 기자 delight@thebchain.co.kr


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